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激光微刻蝕設(shè)備

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

采用帝爾自研光學(xué)勻化技術(shù)，實(shí)現(xiàn)各類隧穿鈍化層的大面積高精細(xì)激光均勻高速蝕刻，廣泛應(yīng)用于各種高效背接觸電池（XBC）的圖形化生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)光刻技術(shù)的完美替代，助力實(shí)現(xiàn)低成本背接觸電池產(chǎn)業(yè)化。

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產(chǎn)品特點(diǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域
技術(shù)指標(biāo)

產(chǎn)品特點(diǎn)

超快激光加工系統(tǒng)+F-T勻化整形技術(shù)，無(wú)損消融各種氧化膜、鈍化膜等材料

方形光斑尺寸根據(jù)客戶需求定制，可滿足不同工藝需求

圖形精細(xì)化控制技術(shù)，保持P/N區(qū)域精準(zhǔn)隔離分區(qū)

自研高精度視覺(jué)算法，實(shí)現(xiàn)高精度定位

高產(chǎn)能，高精度，高均勻性，高穩(wěn)定性

配置多種在線檢測(cè)功能，保障產(chǎn)品高良率

模塊化設(shè)計(jì)，可根據(jù)客戶需求選配，兼容性強(qiáng)

應(yīng)用領(lǐng)域

XBC、TOPCon電池制造

技術(shù)指標(biāo)

設(shè)備尺寸	6000mm（L）x 4000mm（W）x 2200mm（H）
適用硅片尺寸	182mm~230mm，兼容各類矩形片
適用硅片厚度	100-180μm
上下料方式	AGV雙層雙軌進(jìn)出
卡塞盒數(shù)量	5x2+1+1